一，電子級純水設備特點(diǎn)采用PLC自動(dòng)控制水處理及系統清洗，提高了系統的穩定性和控制的精確性，保證了產(chǎn)水水質(zhì)，多介質(zhì)過(guò)濾器與活性炭過(guò)濾器采用上進(jìn)下出水流方式，過(guò)濾效果好且維護檢修方便。 采用兩級反滲透膜處理，不需要添加大量的化學(xué)藥劑和酸堿再生處理，無(wú)化學(xué)廢液及廢酸、堿排放，無(wú)廢酸、堿的中和處理過(guò)程，不會(huì )造成環(huán)境污染。 反滲透水箱設置呼吸閥，確保了純水不受外界污染 ；一級反滲透水箱設置洋流 選配功能，使水箱多余水量自動(dòng)洋流，確保了一級反滲透膜組不需要頻繁啟動(dòng)，電子級純水設備水質(zhì)分別為1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以區分不同水質(zhì)。

二，電子級純水設備主要用途：

1.電子線(xiàn)路板生產(chǎn)制造；

2.半導體芯片晶元件；

3.太陽(yáng)能光伏（硅粉生產(chǎn)、單晶多晶生產(chǎn)、石英坩堝、多晶硅方舟、太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)）

4.鋰電池新能源材料生產(chǎn)

5.納米和高純度電子級材料生產(chǎn)

三，電子級純水設備新型工藝：

根據應用的行業(yè)不同，電子級純水設備的工藝也不同，我們這里以半導體芯片晶元件純水制取工藝為例：

1、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)

2、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(新工藝)

3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)

四，電子級純水設備安裝與檢查說(shuō)明：

1.電子級純水設備安放要選在干燥通風(fēng)效果好的地方，環(huán)境溫度應保證在5-45度內。不通風(fēng)潮濕易制造細菌生長(cháng)環(huán)境、致使材質(zhì)受腐蝕、內部元器件受損害；影響造水水質(zhì)；降低產(chǎn)水量；妨礙設備正常安全運行。

空間改建：規劃好通風(fēng)排水結構；做好墻壁及地面防潮濕、防霉變等特殊處理。

2、設備到位后，選用不銹鋼鋼管閥進(jìn)行連接，管道固定要安全牢固。

3、按照電路圖進(jìn)行電子級純水設備安裝，設備電線(xiàn)連接要由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員操作，電源各項參數需達到設備要求。

電子級純水設備運行前檢查與調試工作：

1.機器開(kāi)機前查看電源是否接通，觀(guān)察預處理器水箱水位、原水壓是否處于正常狀態(tài)。

2.查看全部閥門(mén)有沒(méi)有處于正確狀態(tài)，開(kāi)啟所有排氣閥排盡里面空氣；打開(kāi)電子級純水設備上一二級進(jìn)水閥、濃水閥也打開(kāi)。

3.先打開(kāi)保安過(guò)濾器前進(jìn)水閥將預處理水導入RO設備內，繼續通入預處理水進(jìn)行低壓沖洗35-50分鐘反滲透膜內保護液。