一．    設備簡(jiǎn)介
      半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。 宏潔水務(wù)在滿(mǎn)足用戶(hù)用水標準的基礎上，在設備系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求的方法，使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。

二．    設計標準及依據

1. 根據用戶(hù)提供的詳細水質(zhì)報告“量身定制”。

2. 水處理設備技術(shù)條件《JB/T 2932-1999》

3. 反滲透水處理設備標準《CJ/T119-2000》

4. 低壓開(kāi)關(guān)設備和控制設備成套裝置《IEC439-1 》

5. 實(shí)驗室超純水技術(shù)指標標準《GB6682-2008 》

6. 電子級超純水規格《GB/T11446.1-1997》

三．    工藝流程

1、 原水－原水加壓泵－多介質(zhì)過(guò)濾器－活性炭過(guò)濾器－軟水器－精密過(guò)濾器－級反滲透－PH調節－中間水箱－級反滲透－純化水箱－純水泵－EDI系統－超純水箱－純水泵－拋光裝置－終端超濾－用水點(diǎn)

四．    設計特點(diǎn)

1. 系統采用全自動(dòng)控制(同時(shí)亦可采用手動(dòng)控制），系統運行時(shí)可設定自動(dòng)反洗、再生程序；

2. 各單元接線(xiàn)均在工廠(chǎng)內完成，減少安裝調試時(shí)間；

3. 一級反滲透和二級反滲透設有回流管道，反滲透設備設有化學(xué)清洗裝置；

4. 管道一般采用UPVC材質(zhì)；

5. 集成控制系統和集成儀表系統等，方便操作管理；

6. RO膜定時(shí)清洗 具有開(kāi)機和定時(shí)清洗RO